Ang prinsipyo ng aplikasyon ng CW laser cleaning machine ay batay sa photothermal effect at photomechanical effect: isang high-energy-density continuous laser beam ang tumatagos sa ibabaw ng workpiece, at ang mga kontaminante sa ibabaw (tulad ng kalawang, langis, patong) ay agad na sumisipsip ng enerhiya, na nagdudulot ng mabilis na pagtaas ng temperatura, vaporization o direktang pagbabalat, habang ang base material ay nananatiling buo dahil sa mababang absorption rate o mabilis na thermal conductivity nito, kaya nakakamit ang high-precision, non-contact na "cold cleaning".